De la taille d’un bus. 250 tonnes. 350 millions d’euros. Moore en aurait rêvé. ASML le fait : des machines lithographiques révolutionnaires permettant de produire des puces électroniques gravées en quelques nanomètres.
Comptez 6 mois et une équipe de 50 ingénieurs pour installer et calibrer une telle machine chez un client tel que TSMC.
Une machine qui fabrique des puces, c’est d’abord une prouesse technologique
La technologie Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) dépasse toutes les autres machines de lithographie. Elle permet de graver des semi-conducteurs avec une finesse extrême, à l’échelle nanométrique : aujourd’hui 3 nm avec la technologie EUV, demain 2 nm avec EUV High-NA, et sous la taille du nanomètre avec la technologie EUV Hyper-NA.
Une avancée qui permet à son fabricant ASML d’avoir une position stratégique et critique dans l’essor de l’intelligence artificielle générative. Ces machines devraient augmenter encore la densité et le rendement des lignes de production de puces.
Christophe Fouquet, PDG d’ASML, dit : « Aujourd’hui, il y a entre 200 et 300 milliards de transistors sur certaines puces. D’ici à 2030, il y en aura 1 000 milliards ».
Qui dit innovation technologique dit avantage stratégique.
ASML, un acteur instrumental de l’industrie des semi-conducteurs
Mark Rutte, premier ministre des Pays-Bas, dit : « ASML est l’une des entreprises technologiques les plus importantes au monde. Cette société jouera un rôle majeur dans nos efforts pour rendre l’Europe plus compétitive et souveraine dans le secteur technologique ».
ASML est la deuxième valorisation boursière d’Europe, trois fois celle d’Airbus. Cependant, ASML fait face à des restrictions à l’exportation imposées par les États-Unis et les Pays-Bas, limitant sa capacité à fournir des services pour certains équipements en Chine.
Qui dit innovation technologique dit défi géopolitique.
️️️ La concurrence s’organise, le Japon vise un retour en force
Les concurrents japonais d’ASML, tels que Canon Inc. et Nikon, travaillent également sur des innovations majeures en matière de machines de production de semi-conducteurs.
Canon développe actuellement une nouvelle génération de machines lithographiques à base de nano-impression, visant à rivaliser avec la technologie EUV en termes de précision et d’efficacité.
Nikon, de son côté, explore les technologies de lithographie par faisceau d’électrons pour offrir une alternative prometteuse, particulièrement pour les applications nécessitant une précision extrême et des coûts réduits.
Qui dit innovation technologique dit rivalité créatrice.